技术背景
氢水是一种新兴的清洗技术，其主要特点是通过氢气溶解在超纯水中，形成高活性的清洗液。
主要优势
1. 去污能力强：氢水具有较高的活性，能够有效去除晶圆表面的颗粒污染物。
2. 降低化学腐蚀：与传统清洗剂相比，氢水的腐蚀性更低，不会影响芯片的电学性能。
3. 减少化学品需求：无需使用强酸强碱，减少对环境的污染。
行业应用
目前，氢水清洗技术在日本和韩国的半导体制造行业中已开始应用，并被认为是未来高端晶圆清洗的重要方向。
#东蓝电子清洗剂
